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熱點解析:EUV光刻機成半導體行業(yè)競爭關(guān)鍵 阿斯麥將逢強勢發(fā)展

摘要

近日據(jù)媒體報道,三星有意一次性購入10臺由阿斯麥生產(chǎn)的單價為1.76億美元的EUV光刻機,而阿斯麥EUV光刻機年產(chǎn)僅12臺。為何三星公司不惜重金壟斷EUV光刻機,生產(chǎn)如此昂貴設備的公司緣何受到如此追捧?本行業(yè)報告嘗試對此進行深入剖析。


一、光刻機是縮小半導體制程的關(guān)鍵設備;阿斯麥壟斷EUV光刻技術(shù),產(chǎn)品供不應求。

光刻機是半導體產(chǎn)業(yè)鏈中必不可少的生產(chǎn)設備,也是縮小半導體制程的關(guān)鍵,其決定了半導體制造工藝的先進程度。可以說,光刻技術(shù)更新正引領(lǐng)半導體制程縮小化發(fā)展。隨著半導體發(fā)展進入10nm工藝節(jié)點,EUV光刻機已成為半導體制程突破7nm、5nm工藝的關(guān)鍵性設備。

阿斯麥是世界最大光刻設備供貨商,其全球市場份額超過60%,并壟斷了32nm以下的高端光刻機市場。阿斯麥也是業(yè)內(nèi)唯一一家實現(xiàn)EUV光刻機量產(chǎn)的公司,其生產(chǎn)的EUV光刻機為全球精度最高、生產(chǎn)效率最高、應用最廣的光刻機型。EUV光刻技術(shù)不僅能提高芯片生產(chǎn)商單位時間產(chǎn)量,還使半導體工藝突破10nm 以下。因此,目前僅阿斯麥生產(chǎn)的EUV光刻機可以滿足芯片向7nm以下發(fā)展的需求。

因此,目前全球EUV光刻機嚴重供不應求奠定了阿斯麥龍頭地位。至2017年第三季度,阿斯麥共交付3臺EUV光刻機,預計2018年可交付使用20臺,2019年有望突破30臺,未出貨訂單累積至23臺,阿斯麥EUV光刻機2017年剩余產(chǎn)能和2018年全年產(chǎn)能已被全部預定。鑒于制程領(lǐng)先是稱霸半導體行業(yè)的關(guān)鍵因素,而EUV光刻機是布局領(lǐng)先制程必不可少的生產(chǎn)設備,阿斯麥在EUV市場的壟斷地位不可動搖。

二、全球半導體巨頭紛紛布局領(lǐng)先制程,預計阿斯麥的市場需求將進一步推高。

全球半導體行業(yè)重回上升周期,各大半導體巨頭紛紛布局領(lǐng)先制程,未來光刻設備市場將持續(xù)擴大。半導體設備在下游半導體投資中占領(lǐng)絕對地位,其中光刻設備約占半導體設備市場份額17.8%。2016下半年起全球半導體行業(yè)投資進入上行周期,預計未來兩年全球半導體設備投資規(guī)模將會攀升。而隨著EUV光刻技術(shù)升級,光刻機未來在整個半導體設備價值占比將不斷提升。與此同時,全球主要半導體巨頭開始紛紛布局領(lǐng)先制程。以英特爾、三星和臺積電為例,三星和臺積電分別在2016年底和2017年初實現(xiàn),預計在2018年實現(xiàn)7nm制程量產(chǎn);英特爾預計2018年末實現(xiàn)10nm制程量產(chǎn),2020-2021年實現(xiàn)量產(chǎn);而在5nm制程,三星將在2019年開始芯片測試,臺積電預計2020年一季度實現(xiàn)量產(chǎn)。同時,這三大全球頂尖芯片制造商計劃近兩年將EUV光刻機用于芯片生產(chǎn)。 EUV光刻機是未來縮短半導體制程必要設備,未來也將逐漸成為主流設備,這必將擴大阿斯麥未來市場需求,提升其市場競爭力。

三、亞洲半導體市場擴張和全球存儲器需求走強將成為阿斯麥業(yè)績增長主要驅(qū)動力。

從銷售市場分布來看,目前阿斯麥銷售市場集中在亞洲地區(qū)。近年來亞洲半導體市場規(guī)模逐步擴張帶動阿斯麥亞洲市場銷售規(guī)模處于上升趨勢,美國市場逐步縮小。2017年前三季度阿斯麥77.86%的收入源自亞洲。隨著亞洲在半導體產(chǎn)業(yè)的主導地位日趨顯著,其未來市場份額有望保持在60%左右,而韓國和臺灣地區(qū)兩大銷售市場未來兩年半導體設備投資規(guī)模位居全球前兩位,預計阿斯麥在亞洲銷售規(guī)模將進一步提高。


從下游產(chǎn)業(yè)來看,阿斯麥客戶分別為存儲器客戶和邏輯客戶。首先,存儲器客戶需求將會推升。經(jīng)歷2015年瓶頸和2016年逐步回暖,2017年全球DRAM產(chǎn)業(yè)收入同比增長55%,NAND Flash同比增長35%。存儲器市場成為半導體行業(yè)增速最快的版塊,在存儲器需求走強趨勢下,預計阿斯麥對存儲客戶銷售規(guī)模將持續(xù)提升。其次,邏輯客戶貢獻值持續(xù)增加。邏輯電路生產(chǎn)模式為IDM和代工廠兩種。全球主要IDM公司英特爾和三星皆是阿斯麥的重要客戶;主要代工廠臺積電、三星和格羅方德都加快先進制程布局步伐,這使得阿斯麥生產(chǎn)的EUV光刻機尤為重要。因此阿斯麥在邏輯電路市場將繼續(xù)占據(jù)重要地位。


四、光刻設備為阿斯麥主要收入,利潤水平很高;隨著EUV光刻機不斷更新并量產(chǎn),未來阿斯麥整體盈利能力將會提升。

EUV光刻機量產(chǎn)將助漲阿斯麥盈利能力。2013年起,阿斯麥加大研發(fā)投入開發(fā)EUV光刻系統(tǒng),導致銷售凈利率出現(xiàn)暫時性小幅下滑,但毛利率仍維持在20.88%的較高水平。由于2017年EUV研發(fā)計劃結(jié)束,預計阿斯麥研發(fā)投入規(guī)?;芈鋵⑹蛊滗N售凈利率提高。與此同時,隨著EUV光刻機2016年正式投產(chǎn),2017年開始量產(chǎn),2018年后產(chǎn)能逐步提高,預計阿斯麥整體盈利將強勢提升。從產(chǎn)品收入結(jié)構(gòu)來看,光刻機銷售收入一直是阿斯麥主要收入來源。近年來阿斯麥配套服務支持等其他業(yè)務收入占比的不斷提升將在一定程度上緩解收入結(jié)構(gòu)相對集中的風險??紤]到EUV技術(shù)在縮短制程中的關(guān)鍵作用,預計阿斯麥中期內(nèi)將繼續(xù)保持在高端光刻機市場的壟斷地位。


文/馬雪琰

2017-12-04  來源:和訊網(wǎng) 

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